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iPV-3000
发布者:上海凯世通半导体股份有限公司 发布时间:2022-08-10 来源:上海凯世通半导体股份有限公司
iPV3000 第三代光伏离子注入设备(2017-)维持皮带水平传送硅片和固态磷离子源改进的大束流离子源,束流提升40%增加图案化注入掺杂功能产能3000WPH。
iSolar iPV3000特点:
高产能、低成本
高密度束流系统,束流密度>4.0mA/cm,实现设备产能3000WPH。采用固态磷作为掺杂源,掺杂成本0.3分/片(RMB)。
兼容性强
传送方式简单。无需修改任何硬件,完全兼容不同硅片厚度(120-200μm)和尺寸(156-161.75mm)
双离子源设计
保证设备高uptime。根据客户需求,2个离子源可采用不同的掺杂源,一步实现p型和n型不同区域的掺杂。
图案化注入功能
硅片自对准工艺保证对准精度,结合双离子源实现图案化注入。
本土制造和服务
全面质量管理生产,一流服务质量。
iPV3000 产品参数:
注入离子 : P+, B+
注入能量: 5 to 15 keV
产能: 3000wph
尺寸 L x W: 5.7m x 2.5m